分析范圍0~50微米
分析誤差5%
分析時間30秒
重復性0.1%
電源電壓220V
EDXThick800是一款全新上照式多功能自動微區(qū)X熒光膜厚測試儀,既滿足原有微小和復雜形態(tài)樣品的膜厚檢測功能,又可滿足有害元素檢測及輕元素成分分析;搭載自動化的X/Y/Z軸的三維系統(tǒng)、雙激光定位和保護系統(tǒng),可多點位編程測試,被廣泛應(yīng)用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量。
設(shè)計亮點
上照式設(shè)計,可適應(yīng)更多異型微小樣品的測試。相較傳統(tǒng)光路,信號采集效率提升以上。可變焦高精攝像頭,搭配距離補正系統(tǒng),滿足微小產(chǎn)品,臺階,深槽,沉孔樣品的測試需求。可編程自動位移平臺,微小密集型可多點測試,大大提高測樣效率。自帶數(shù)據(jù)校對系統(tǒng)。

X熒光鍍層測厚儀配置
01 立的X/Y/Z軸控制系統(tǒng)
02 微焦斑X光管
03 可變高壓電源
04 防撞板外加防撞激光保護檢測器對儀器進行雙重安全保護
05 Fast-SDD探測器
06 雙激光定位裝置
07 標配可自動切換的準直孔和濾光片

基于X-光熒光的涂層厚度和材料分析是業(yè)內(nèi)廣泛接受認可的分析方法,提供易于使用、快速和無損的分析,幾乎不需要樣本制備,能夠分析元素周期表上從13Al 到92U 的固體或液體樣品。
X射線測厚儀具有環(huán)保綠色安全的特性,不但還更環(huán)保而且對于人和環(huán)境的更小。X射線測厚儀利用X射線穿透被測材料時,X射線的強度的變化與材料的厚度相關(guān)的特性,從而測定材料的厚度,是一種非接觸式的動態(tài)計量儀器。它以PLC和工業(yè)計算機為核心,采集計算數(shù)據(jù)并輸出目標偏差值給軋機厚度控制系統(tǒng),已達到要求的軋制厚度.測量元素:原子序數(shù)22(Ti)~83(Bi)
檢測器:比例計數(shù)管
X射線管:管電壓:50kV 管電流:1
準直器:4種(Φ0.05mm、Φ0.1mm、Φ0.2mm、Φ0.025×0.4mm)
樣品觀察:CCD攝像頭(可進行廣域觀察)
X-Ray Station:電腦、19英寸液晶顯示器
膜厚測量軟件:薄膜EP法、標準曲線法
測量功能:自動測量、中心搜索
定性功能:KL標記、比較表示
使用電源:220V/7.5A
特長:
1.自動對焦功能 自動接近功能
在樣品臺上放置各種高度的樣品時,只要高低差在80mm范圍內(nèi),即可在3秒內(nèi)自動對焦被測樣品。由此進一步提高定位操作的便捷性。
●自動對焦功能 簡便的攝像頭對焦
●自動接近功能 適合位置的對焦
測量元素:原子序數(shù)22(Ti)~83(Bi)
檢測器:比例計數(shù)管
X射線管:管電壓:50kV 管電流:1
準直器:4種(Φ0.05mm、Φ0.1mm、Φ0.2mm、Φ0.025×0.4mm)
樣品觀察:CCD攝像頭(可進行廣域觀察)
X-Ray Station:電腦、19英寸液晶顯示器
膜厚測量軟件:薄膜EP法、標準曲線法
測量功能:自動測量、中心搜索
定性功能:KL標記、比較表示
使用電源:220V/7.5A
高分辨率 SDD
元素范圍: 鋁 - 鈾
樣品艙設(shè)計:開槽式
XY 軸樣品臺選擇:固定臺、自動臺

X射線測厚儀
X射線測厚儀利用X射線穿透被測材料時,X射線的強度的變化與材料的厚度相關(guān)的特性,從而測定材料的厚度,是一種非接觸式的動態(tài)計量儀器。它以PLC和工業(yè)計算機為核心,采集計算數(shù)據(jù)并輸出目標偏差值給軋機厚度控制系統(tǒng),已達到要求的軋制厚度。
應(yīng)用領(lǐng)域
X射線測厚儀
中文名:x射線測厚儀
測量精度:測量厚度的±0。1%
測量范圍:0.01mm—8.0mm
靜態(tài)精度:±0.1%或者±0.1微米
結(jié)構(gòu)組成
用戶操作終端
冷卻系統(tǒng)
X射線發(fā)射源及接收檢測頭
主控制柜
適用范圍
生產(chǎn)鋁板、銅板、鋼板等冶金材料為產(chǎn)品的企業(yè),可以與軋機配套,應(yīng)用于熱軋、鑄軋、冷軋、箔軋。其中,x射線測厚儀還可以用于冷軋、箔軋和部分熱軋的軋機生產(chǎn)過程中對板材厚度進行自動控制。
天瑞儀器股份有限公司集30多年X熒光膜厚測量技術(shù),研發(fā)的一款全新上照式X射線熒光分析儀,該款儀器配置嵌入集成式多準直孔、濾光片自動切換裝置和雙攝像頭,不僅能展現(xiàn)測試部位的細節(jié),也能呈現(xiàn)出高清廣角視野;自動化的X/Y/Z軸的三維移動,實現(xiàn)對平面、凹凸、拐角、弧面等形態(tài)的樣品進行快速對焦分析。能地滿足半導體、芯片及PCB等行業(yè)的非接觸微區(qū)鍍層厚度測試需求。
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