涂層膜厚測試儀原理

　　涂層膜厚測試儀被廣泛應(yīng)用于測量從0.1到50微米各種薄膜材料的厚度。無論單層或多層薄膜，簡單的球磨測試都能快速準(zhǔn)確的測定每一層薄膜的厚度。典型的試樣包括CVD、 PVD、等離子噴射涂層、陽極氧化薄膜、離子濺射薄膜、化學(xué)和電鍍沉積鍍膜、高分子薄膜、涂料、釉漆等等。

　　原理：一個(gè)半徑精確已知的磨球由自身重力作用于鍍膜試樣表面并進(jìn)行自轉(zhuǎn)。在測試過程中，磨球與試樣的相對位置以及施加于試樣的壓力保持恒定。磨球與試樣間的相對運(yùn)動(dòng)以及金剛石顆粒研磨液的共同作用將試樣表面磨損出一球冠形凹坑。 隨后的金相顯微鏡觀測可以獲得磨損坑內(nèi)涂層和基體部分投影面積的幾何參數(shù)。在得知了X和Y的長度后，涂層的厚度D可以通過簡單的幾何公式計(jì)算得出。

膜厚儀又名膜厚測試儀，分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測厚儀，電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線儀鍍層測厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。膜厚儀也叫X射線測厚儀，它的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強(qiáng)度，來進(jìn)行定性和定量分析。