膜厚儀與涂層測厚儀的差別

膜厚儀一般來說和涂層測厚儀是一類產品。

膜厚儀一般是測氧化膜層厚度，常見的鋁基，銅基氧化，測量時候用涂層測厚儀選擇N（非磁性）探頭，這樣測鋁基等氧化層也稱為膜厚儀。

涂層測厚儀正常情況下有兩種測量原理，配F合N探頭，或者FN一體探頭。氧化層一般是幾微米到十幾微米，但是普通的涂層測厚儀誤差比較大，需要用高精度的涂層測厚儀測量氧化層.

兩者是只是根據材料有細微區別，不過現在使用者很多不了解，也相互稱呼。

膜厚儀又名膜厚測試儀，分為手持式和臺式二種，手持式又有磁感應鍍層測厚儀，電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線儀鍍層測厚儀。手持式的磁感應原理時，利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。膜厚儀也叫X射線測厚儀，它的原理是物質經X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩定的狀態。從不穩定狀態要回到穩定狀態，此物質必需將多余的能量釋放出來，而此時是以熒光或光的形態被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強度，來進行定性和定量分析。